O estudante Claudio Abilio da Silveira, orientado pelo Prof. Milton Pereira, Dr.Eng. e coorientado pelo Prof. Dr.-Ing Walter Lindolfo Weingaertner, defenderá sua tese na próxima quinta-feira (19/12) às 14h no Auditório do EMC (Bloco A). A defesa é vinculada ao Programa de Pós-Graduação em Engenharia Mecânica. O auditório tem capacidade para 64 pessoas.
Banca:
Prof. Dr.-Ing Walter Lindolfo Weingaertner (Presidente)
Prof. Luís Gonzaga Trabasso, Ph.D. (Relator/SENAI)
Prof. Dr.-Ing. Marcelo Ricardo Stemmer (DAS/UFSC)
Prof. Fabio Antonio Xavier, Dr.Eng.
Título: “Movimentação síncrona e simultânea entre scanner galvanométrico e eixos lineares em aplicações laser”
Resumo:
A constante evolução da tecnologia laser tem permitido seu emprego em diferentes áreas. Fontes laser cada vez mais eficientes e a redução de custo promovem grande expansão de uso no processamento de materiais. Scanners galvanométricos são comumente utilizados para atingir velocidades de deslocamentos de vários metros por segundo na movimentação do feixe laser. No entanto, estes dispositivos apresentam um alcance de processamento limitado a dezenas ou centenas de milímetros na maioria dos casos. Este trabalho aborda a influência dos parâmetros e da estratégia de varredura em um sistema de movimentação síncrona e simultânea composto por um scanner galvanométrico 2D e dois eixos lineares com o objetivo de expandir a área de atuação do scanner. Após estabelecer uma estratégia de movimentação são realizados ensaios para verificar a influência dos parâmetros de movimentação sobre o tempo de execução do processamento. Para investigar a influência da estratégia de movimentação foi medido a variação da temperatura ao longo do perfil longitudinal de um corpo de prova. A análise da distribuição de temperatura ao longo do percurso de processamento tem objetivo de avaliar a entrega da energia pelo laser em função do caminho percorrido pelo feixe. Os resultados mostram que o tempo de processamento depende da relação entre a área de atuação do scanner e a amplitude dos elementos geométricos processados. Quando os vetores de movimentação são superiores a área de atuação do scanner, a demanda por movimentação dos eixos lineares aumenta. Nesta condição, a velocidade limitada dos eixos lineares pode apresentar maior significância sobre o tempo de processamento que a velocidade do scanner. A estratégia de varredura, por sua vez, apresenta influência direta sobre a distribuição espacial e temporal da energia entregue durante o processamento, e por consequência a condição final da peça processada. A combinação dos parâmetros de movimentação, bem como a estratégia de movimentação utilizada, são importantes fatores no desempenho do sistema, contribuindo para otimização da movimentação síncrona e simultânea entre scanner galvanométrico e eixos lineares.
Palavras-chave: Movimentação síncrona, cabeçote galvanométrico, galvo, microrremoção